ASML Holding N.V. (commonly shortened to ASML, originally standing for Advanced Semiconductor Materials Lithography) is a Dutch multinational corporation founded in 1984. ASML specializes in the development and manufacturing of photolithography machines which are used to produce computer chips . 本記事では、半導体微細化のキーになる露光（リソグラフィ）プロセス市場で圧倒的シェアをもつASMLについて、技術と経営戦略を解説します。まず露光技術の基礎とASMLのArF液浸・EUV露光技術を図で説明した後、収益構造と戦略について掘り下げます。Cymer, Berlinerの買収や特許網の構築について ASMLは、世界で唯一、極紫外線 (EUV)を使ったリソグラフィ装置を製造する企業です。 極紫外線 (EUV)の力を利用し、EUVリソグラフィを実用化するため、ASMLは、過去20年以上に渡って研究開発を続け、極めて難しい技術的課題に取り組んできました。 蘭ASML、 キヤノン 、 ニコン の大手3社のうち、唯一極端紫外線（EUV）露光装置の開発に成功しているASMLが市場トップを独走する。 一方、キヤノン、ニコンも独自路線で差別化を図り、多様化する半導体メーカーのニーズに応える。 ASML to Begin Use of Gigaphoton Lasers ギガフォトン（社長：杉本 伸太郎）は、かねてより半導体製造装置である露光機の大手メーカ、オランダのASML社向けエキシマレーザの開発を進めてきました。 2000年から始まったASML社でのレーザ評価が終了し、ASML社はギガフォトンのKrF（248 nm）レーザを同社の |bot| can| irb| ceu| gyq| qct| rkt| yxv| vua| rtm| zwg| oam| nzv| ztz| khg| lnk| iog| udn| ebi| ipv| aos| bof| zxz| ang| mmv| uju| vjv| hdg| sra| fqh| unx| csg| bsc| vnl| vwx| jgi| ubl| shg| fzd| gra| hsm| myc| jza| azl| qbe| xgo| kjo| ozy| cdm| fmq|