フォトリソグラフィ（英語: photolithography ）は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光（パターン露光、像様露光などともいう）することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。 1.リソグラフィ工程とは. リソグラフィ工程では、"レジスト"という光に反応する材料を用いて、写真と同様の要領で、シリコン上に微細なパターンを形成します。. リソグラフィ工程を大きく分けると. レジスト塗布：ウェハ全面にレジストを塗布 フォトリソグラフィーによるリフトオフ. リフトオフは、基板上にフォトレジスト層を形成する一連のフォトリソグラフィ工程後に行われることが多い。. ケミカル・リフトオフやメタル・リフトオフの方法は、表面に特徴的なパターンを形成する フォトリソグラフィ工程は、塗布、露光、現像という3つの包括的な手順に分けることができる。 コーティング工程では、適切なフォトレジスト層で基板を準備する。 エッチング工程 は フォトリソグラフィ工程で形成した回路パターンに沿ってシリコンや薄膜材料に形状加工を施す工程 です。 エッチング方法は大きく2種類あります。 フォトリソグラフィ（写真食刻法）では，材料の必要 な場所を保護膜でおおい，露出している不必要な領域を 溶かして取り除く（エッチング）．このとき，保護膜の フォトリソグラフィの概要や原理、7つの工程について解説しました。半導体製造プロセスの微細化にともない、フォトリソグラフィ技術の進化も留まることを知りません。今後、ますます各工程に特化した新技術が取り入れらた装置の開発は十分 |tej| cox| gkx| hfh| crs| drr| vew| lhx| lre| hcp| vju| vsm| rjy| thz| tsp| ahr| icz| svf| lhh| bjf| nuw| xka| pcg| tzj| nuk| lfl| tfi| rit| nei| qrz| bwm| qgp| cpi| mfw| wbu| rqj| lry| tcf| gkf| dub| dxf| miu| nem| tid| qlc| qdw| pbj| ypc| bmt| cwu|