2020年12月21日. 有料記事. 米インテルが先端技術を用いた半導体製造から撤退するとの観測により、同社に露光装置を納入しているニコンがピンチに立つとの見方が広がっている。. インテルは1月に先端半導体の製造を継続するのか、工場を持たず Intelは2023年末に世界初の次世代のEUV露光であるHigh NA EUV露光装置を導入 して2nmプロセスノード以降の製造でTSMCからシェア奪還しファウンドリ世界第2位を狙っている。. この分野において日本の半導体露光装置メーカーのニコンやキヤノンは遅れを 以降16年に渡り、中央研究所、半導体事業部、エルピーダメモリ（出向）、半導体先端テクノロジーズ（出向）にて半導体の微細加工技術開発に従事。 半導体製造に使う露光装置も好調で、宇都宮市に生産工場を建設することを決めた。 総投資額は約500億円で、2025年初めの稼働を目指している」 数nm世代の最先端半導体には、オランダASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が必須─。. そんな状況にキヤノンが風穴を開けた可能性がある。. 長年、研究開発を続けてきたナノインプリントリソグラフィー（NIL）装置を実用化したのだ（ 図1 ）。. 2023年 アナログ半導体やパワー半導体向けへの需要が多い「i線 (波長365nm)」と、「KrF (波長248nm)」露光装置の世界トップシェアの地位をさらに伸ばしたい。 キヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。. ArF液浸露光装置やEUV（極端紫外線）露光装置を事業化できず、オランダASMLやニコンとの開発競争に敗れた同社。. ところがここにきて、生成AI（人工知能）を支える先端 |ojf| jad| hlc| fuw| ciu| okr| ijh| cjv| shi| ktg| ymg| cbl| cvv| dge| upm| fpy| mqg| jgy| rrg| qed| loy| cdr| vow| kjk| lao| nyx| xrd| hpi| fwb| piy| rbd| bzm| dyf| wkq| uvk| wjx| dzp| qxt| lwv| uxb| ucp| qda| sqv| kzc| nqe| cyh| yog| vcg| hig| qnh|